A China avançou sigilosamente na corrida dos semicondutores ao construir em Shenzhen um protótipo de máquina de litografia EUV — tecnologia que os EUA tentam bloquear há anos — desenvolvido por ex‑engenheiros da ASML e já capaz de gerar luz extrema, aproximando o país da autonomia na produção de chips avançados.

De acordo com a Reuters, cientistas chineses construíram em Shenzhen um protótipo de máquina de litografia ultravioleta extrema (EUV, na sigla em inglês), tecnologia que os Estados Unidos tentam bloquear há anos por ser crucial para a fabricação dos chips mais avançados usados em inteligência artificial (IA), smartphones e sistemas militares. Concluído no início de 2025, o equipamento ocupa quase todo um galpão e foi desenvolvido por ex‑engenheiros da ASML que realizaram engenharia reversa das máquinas holandesas.

Embora o protótipo já consiga gerar luz EUV, ele ainda não produz chips funcionais. Mesmo assim, sua existência sugere que a China pode estar mais próxima da autonomia tecnológica do que analistas previam, apesar das dificuldades em replicar sistemas ópticos de alta precisão fabricados por fornecedores ocidentais. O governo chinês mira 2028 para fabricar chips no protótipo, mas fontes internas consideram 2030 mais realista — ainda assim, anos antes das estimativas internacionais.

O projeto integra uma iniciativa estatal de seis anos para alcançar autossuficiência em semicondutores, prioridade estratégica do líder chinês Xi Jinping. Conduzido em sigilo, ele se insere na estratégia nacional coordenada por Ding Xuexiang e mobiliza uma ampla rede de empresas e institutos, com a Huawei desempenhando papel central. Fontes que falaram à apuração, comparam o esforço ao "Projeto Manhattan" chinês, dada sua escala e importância estratégica.

A motivação é clara: produzir chips avançados usando apenas máquinas fabricadas na China e reduzir a dependência de cadeias de suprimentos controladas pelos EUA. Até hoje, apenas a empresa holandesa ASML domina a tecnologia EUV, após quase duas décadas de pesquisa e bilhões de euros investidos. Suas máquinas, que custam cerca de US$ 250 milhões (mais de R$ 1,6 bilhão), são indispensáveis para empresas como Nvidia, AMD, TSMC e Samsung.

Desde 2018, os EUA pressionam os Países Baixos para impedir a venda de sistemas EUV à China, e controles de exportação ampliados em 2022 passaram a restringir também máquinas de litografia ultravioleta profunda (DUV, na sigla em inglês) mais antigas. Nenhum sistema EUV foi vendido ao país, e as limitações têm afetado a capacidade chinesa de produzir chips avançados, especialmente na Huawei. Apesar das barreiras, a China avança usando peças de máquinas ASML antigas e componentes adquiridos em mercados secundários.

'Manhattan chinês'

De acordo com a mídia britânica, ex‑engenheiros chineses da ASML recrutados para o projeto relataram ter recebido cartões de identificação com nomes falsos e instruções rígidas de sigilo, inclusive dentro das próprias instalações. O grupo, formado sobretudo por profissionais aposentados com conhecimento técnico sensível, tornou‑se peça-chave para o avanço chinês, embora a prática levante preocupações sobre espionagem tecnológica. A ASML afirma proteger rigorosamente seus segredos comerciais, mas reconhece limitações para monitorar ex-funcionários no exterior.

O esforço de recrutamento integra uma suposta campanha iniciada em 2019, que oferece bônus milionários e benefícios imobiliários para atrair especialistas globais. Entre os contratados está Lin Nan, ex-líder de tecnologia de fontes de luz da ASML, cuja equipe registrou diversas patentes em pouco mais de um ano.

Paralelamente, institutos de pesquisa como o CIOMP lideram o desenvolvimento de alternativas nacionais e já conseguiram integrar luz EUV ao protótipo, permitindo sua operação inicial prevista para 2025, embora ainda com necessidade de refinamentos. Para acelerar o avanço, o instituto oferece salários elevados e bolsas milionárias a especialistas.

Diante das restrições internacionais, a China continua recorrendo a componentes de máquinas ASML antigas, peças de segunda mão e até equipamentos com restrições de exportação de Nikon e Canon. Cerca de 100 jovens engenheiros trabalham na engenharia reversa de sistemas EUV e DUV, registrando cada etapa de desmontagem e remontagem. Quem consegue reconstruir componentes com sucesso recebe bônus — um esforço considerado central para a ambição chinesa de dominar a litografia avançada.

Por Sputinik Brasil